Dual Beam Laboratorio

Laboratorio equipaggiato con sistema dual beam Solaris X, prodotto da TESCAN. Si tratta di un microscopio elettronico con sorgente ad emissione di campo (FEG) con la possibilità di fare analisi morfologica di campioni tramite microscopia elettronica e con la possibilità di condurre analisi composizionali localizzate tramite l’uso di sensore per la detezione di emissione di raggi X (EDS), oltre che di effettuare litografia elettronica.
Il sistema è equipaggiato con una seconda colonna per la generazione di un fascio ionico focalizzato (FIB), che utilizza una sorgente al plasma a ioni di Xeno. Tale combinazione di due colonne permette di effettuare lavorazioni, scavi e ablazioni alla scala micro- e nano-metrica su campioni che possono essere contestualmente analizzati e osservati col fascio elettronico.
Il sistema è inoltre equipaggiato con iniettori di precursori chimici a gas (GIS) che permettono di iniettare nella camera di lavorazione un piccolo flusso localizzato di gas precursore che, tramite eccitazione locale da fascio elettronico o ionico, promuove la deposizione e la crescita di vari materiali sul campione, permettendo di realizzare micro- e nano-strutture di forma arbitraria.
Il sistema possiede inoltre un nanomanipolatore per sollevare, manipolare e rimuovere piccole porzioni sottili di campioni tagliati col fascio ionico al fine di produrre piccole porzioni sottili di campione che possano essere osservate al microscopio elettronico in trasmissione.